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薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)采購需求征求意見公告附件:采購需求書及修改建議書格式.docx

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武漢市 2025-12-09 370.17KB 業(yè)主:武漢理工大學(xué)
內(nèi)容簡介

附件1:薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)采購需求書一、綜述序號需求內(nèi)容采購需求1采購項目名稱薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)2采購人武漢理工大學(xué)3項目預(yù)算(萬元)6994采購內(nèi)容序號貨物名稱預(yù)算(萬元)數(shù)量是否為進口產(chǎn)品是否為核心產(chǎn)品1全自動六靶磁控鍍膜系統(tǒng)1601套否否2原子層沉積設(shè)備2701套否是3快速退火爐891套否否4紫外-近紅外絕對發(fā)光量子產(chǎn)率測試儀1801套否否二、技術(shù)、服務(wù)要求①本采購需求描述中涉及品牌(如有)、規(guī)格、型號、尺寸及重量的均為參考,投標人可提供同等檔次或更高檔次產(chǎn)品,并提供相應(yīng)技術(shù)參數(shù)證明其符合采購需求;②標注“★”的代表關(guān)鍵指標,不滿足該指標項將導(dǎo)致投標被拒絕,“#”代表重要指標,無標識則表示一般指標項;③投標貨物如屬于強制節(jié)能產(chǎn)品品目內(nèi)的,依據(jù)財庫[2019]9號文的規(guī)定,應(yīng)提供節(jié)能產(chǎn)品政府采購品目證書證明材料,否則按無效投標處理。④采購需求未要求具體證明材料的,可以使用產(chǎn)品制造商出具的技術(shù)說明書或產(chǎn)品制造商公開發(fā)布的產(chǎn)品彩頁、產(chǎn)品標準、使用說明書、有資質(zhì)的第三方檢測機構(gòu)出具的檢驗報告,或驗收合格證明材料或其他能佐證符合本項目技術(shù)參數(shù)的材料。有具體要求的列項按技術(shù)要求中列明的證明材料提供。未提供有效證明材料或證明材料中內(nèi)容與所填報指標不一致的,該指標按不滿足處理。1貨物/服務(wù)名稱薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)數(shù)量:1套主要功能要求薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)可實現(xiàn)從薄膜材料制備、熱處理到光電性能表征的綜合功能。應(yīng)遵循的相關(guān)國家標準、行業(yè)標準等標準、規(guī)范?無□有,要求:1薄膜材料制備與光電性能表征綜合系統(tǒng)技術(shù)指標序號指標項重要性指標要求需提供證明材料要求一、全自動六靶磁控鍍膜系統(tǒng)1極限真空#每個濺射室真空度極限≤66×10-5Pa;進樣室真空度極限≤66×10-1Pa?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書2系統(tǒng)漏率#停泵關(guān)機12小時后,濺射室真空度可達≤1Pa?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書3系統(tǒng)抽速濺射室從送完樣片后開始抽氣,抽到30×10-4Pa≤20分鐘內(nèi)?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書4濺射靶#濺射靶數(shù)量、規(guī)格及安裝形式:¢80mm永磁靶六個。每個濺射室,三支永磁靶在上,傾斜向下共濺射成膜。磁控靶相對于基片位置,40mm-90mm之間連續(xù)可調(diào)。磁控靶前設(shè)置有電驅(qū)動擋板,驅(qū)動電機,由計算機控制打開或遮擋靶位。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書5不均勻性#每個濺射不均勻性:Φ6吋范圍內(nèi)≤?5%?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書6加熱樣品轉(zhuǎn)臺每個加熱樣品轉(zhuǎn)臺:可放置Φ6吋樣片一片(向下兼容)。轉(zhuǎn)臺下裝有石英加熱器,溫度由室溫~500℃連續(xù)可調(diào)。采用溫控儀控制(PID調(diào)節(jié),即功率調(diào)節(jié)),控溫精度±2℃??稍谟醒鯕夥罩虚L期工作。樣品轉(zhuǎn)臺密封體采用磁流體密封;傳動機構(gòu)采用步進電機及驅(qū)動□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書器,轉(zhuǎn)臺轉(zhuǎn)速0~15轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào);計算機控制轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)。7濺射室每個濺射室:全不銹鋼制造。上蓋采用電動提升機,三靶在上,樣品臺在下,加熱在下,真空室開有渦輪分子泵接口、引線接口、觀察窗接口、備用法蘭接口、磁控靶接口、規(guī)管測量接口、樣品轉(zhuǎn)盤接口等。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書8主抽系統(tǒng)每個濺射室主抽氣采用一臺大抽速的變頻控制的1200升/秒復(fù)合分子泵作為主抽泵,前級排氣采用一臺抽速≥14L/s機械泵,隔斷閘板閥采用¢200㎜電動調(diào)節(jié)插板閥。每個濺射室抽氣管路上裝有一電動調(diào)節(jié)插板閥,通過薄膜規(guī)測量濺射室內(nèi)真空度,經(jīng)過壓力控制器控制閥門開度,使濺射室內(nèi)永遠保持設(shè)定的壓力、保證工藝的穩(wěn)定性?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書9抽氣系統(tǒng)進樣室抽氣系統(tǒng):采用另一臺抽速≥14L/s機械泵?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書10真空鎖及傳動機構(gòu)送取樣片機構(gòu)及真空鎖:機械手傳動機構(gòu):氣缸傳動真空鎖:氣缸驅(qū)動□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書11真空測量真空測量:采用數(shù)顯真空計測量真空?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書12工作氣路#濺射用工作氣路:5路氣路。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書13真空室放氣真空室解除真空時,放氣采用電磁閥自動控制?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書14直流穩(wěn)流電源1000W三套。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書15射頻電源1000W三套。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書16清洗功能在進樣室還具有等離子清洗功能?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書17控制系統(tǒng)由工控機及PLC控制器控制整個系統(tǒng),及15〞觸摸顯示屏(液晶)組成??刂频膬?nèi)容主要有:真空系統(tǒng)、樣品公轉(zhuǎn)、樣品控溫、濺射鍍膜過程、進取樣片過程等全自動控制,即生產(chǎn)全過程無需人工干預(yù)的全自動控制系統(tǒng)。工作模式可選擇自動和非自動模式。系統(tǒng)設(shè)有各種安全保護措施。支持系統(tǒng)諸如異常斷電等情況下的安全保護?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書二、原子層沉積設(shè)備1沉積溫度基片加熱溫度范圍:室溫-350℃,控溫精度±1℃?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書2反應(yīng)腔體#反應(yīng)腔采用單腔設(shè)計,具有后期升級原位橢偏儀和QCM的能力?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書3反應(yīng)腔體#反應(yīng)腔可容納樣品尺寸不超過8英寸(200mm直徑)x025英寸(64mm高度),滿足100mm*100mm樣品尺寸要求?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書4反應(yīng)腔體反應(yīng)腔具有獨立的雙溫區(qū)加熱設(shè)計,保證反應(yīng)腔熱壁的狀態(tài)?!鯚o?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書5工藝能力#工藝模式分為連續(xù)工藝模式和曝光模式,曝光工藝模式可以滿足深寬比2000:1的深槽鍍膜要求;連續(xù)工藝模式可以滿足平坦樣品的鍍膜要求。□無?有,要求:制造商官方產(chǎn)品彩頁或產(chǎn)品白皮書

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