空天信息大學(xué)籌2026年01月至03月政府意向-空天信息大學(xué)籌材料生長與刻蝕等工藝設(shè)備詳細(xì)情況萬元人
招標(biāo)預(yù)告 | 2026-01-08丨 山東
本項(xiàng)目用于空天信息大學(xué)（籌）先進(jìn)微納加工平臺建設(shè)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)需求擬通過采購熱型介電材料原子層沉積 查看詳情>>
膠系統(tǒng)2套需實(shí)現(xiàn)12英寸超導(dǎo)量子芯片制造中無損傷、高均勻性去膠功能。設(shè)備須滿足上述技術(shù)規(guī)格提供完善的安裝調(diào)試、操作培訓(xùn)與售后服務(wù)確保生產(chǎn)過程安全可靠并在約定周期內(nèi)完成交付驗(yàn)收。 查看詳情>>
科研 查看詳情>>
厚材料勻膠烤膠顯影去膠一體化系統(tǒng) 查看詳情>>
項(xiàng)目包含信創(chuàng)綜合實(shí)訓(xùn)設(shè)備、網(wǎng)絡(luò)安全攻防實(shí)訓(xùn)設(shè)備。 包含鴻蒙全棧訊創(chuàng)實(shí)驗(yàn)一體機(jī)、鴻蒙智能家居開發(fā)套件 查看詳情>>
項(xiàng)目包括1.等離子去膠機(jī)、2.激光打標(biāo)機(jī)、3.金絲球焊機(jī)、4.晶圓切片機(jī)、5.晶圓清洗臺、6.尾氣處理器、7.金相顯微鏡、8.納米臺階儀、9.探針測試臺等設(shè)備 查看詳情>>
洗工藝以及前道濕法去膠工藝。機(jī)臺為全自動單片式濕法清洗機(jī)要求配備至少三個獨(dú)立腔體每個腔體具備標(biāo)準(zhǔn)RCA工藝（SPM+SC1+SC2+DHF）SPM出口溫度 查看詳情>>
用于后段含金屬暴露的、光刻膠灰化后的晶圓的有機(jī)污染物清洗同時也用作電極制備lift 查看詳情>>
用于凹槽內(nèi)光刻膠殘膠去除表面等離子體活化解鍵合后表面殘膠去除光刻膠灰化工藝。要求配備至少兩個腔體公共 查看詳情>>
1. MDM1000型手動點(diǎn)膠機(jī)2臺2. MSK1000型手動擴(kuò)晶機(jī)2臺3. PSB2200型高溫固 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：重慶郵電大學(xué)集成電路現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)學(xué)院設(shè)備采購第二批；標(biāo)的數(shù)量：集成電路設(shè)計(jì)綜合平臺包括：集成電 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：重慶郵電大學(xué)集成電路現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)學(xué)院設(shè)備采購第二批；標(biāo)的數(shù)量：集成電路設(shè)計(jì)綜合平臺包括：集成電 查看詳情>>
國地聯(lián)合工程研究中心項(xiàng)目續(xù)建-進(jìn)口設(shè)備2025年6月政府采購意向-國地聯(lián)合工程研究中心項(xiàng)目續(xù)建-進(jìn)口設(shè)備
招標(biāo)預(yù)告 | 2025-06-05丨 浙江
標(biāo)的名稱：國地聯(lián)合工程研究中心項(xiàng)目（續(xù)建）-進(jìn)口設(shè)備 查看詳情>>
1、 查看詳情>>
本項(xiàng)目用于空天信息大學(xué)（籌）先進(jìn)微納加工平臺建設(shè)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)需求擬通過采購硅硅自動鍵合機(jī)實(shí)現(xiàn)高 查看詳情>>
本項(xiàng)目用于空天信息大學(xué)（籌）先進(jìn)微納加工平臺建設(shè)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)需求擬通過采購硅硅自動鍵合機(jī)實(shí)現(xiàn)高 查看詳情>>
膠機(jī) 查看詳情>>
VS電位滴定涂膠機(jī)去膠機(jī)化鍍機(jī)激光誘導(dǎo)機(jī)研磨機(jī)切割機(jī)（玻璃）印刷機(jī)回流機(jī)Flux清洗機(jī)鍵合機(jī)（晶圓鍵合）解鍵合機(jī)用于玻璃基加工。 查看詳情>>
VS電位滴定涂膠機(jī)去膠機(jī)化鍍機(jī)激光誘導(dǎo)機(jī)研磨機(jī)切割機(jī)（玻璃）印刷機(jī)回流機(jī)Flux清洗機(jī)鍵合機(jī)（晶圓鍵合）解鍵合機(jī)用于玻璃基加工。 查看詳情>>
膠機(jī)。采購數(shù)量為1臺。采購標(biāo)的主要功能：滿足8英寸晶圓刻蝕后去膠腔體數(shù)量1為ICP刻蝕。采購標(biāo)的需滿足的質(zhì)量服務(wù)安全時限：提供設(shè)備驗(yàn)收合格后1年質(zhì)保及一體化環(huán)境工程整體解決方案；設(shè) 查看詳情>>
用于12吋三維異質(zhì)異構(gòu)集成混合鍵合技術(shù)研發(fā)去除等離子劃片工藝過程中切割道上的光刻膠支撐后續(xù)的等離子刻 查看詳情>>
IE、等離子體干法去膠機(jī)、IBE刻蝕機(jī)、微束定點(diǎn)離子精修系統(tǒng) 查看詳情>>
采購一批半導(dǎo)封裝設(shè)備用于集成電路領(lǐng)域的科學(xué)研究和人才培養(yǎng)采購標(biāo)的包括：晶圓貼膜機(jī)（正面）、半自動晶圓 查看詳情>>
北京航空航天大學(xué)2024年9至12月政府采購意向-北京航空航天大學(xué)集成電路科學(xué)與工程學(xué)院芯片加工教學(xué)研究平臺詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-09-09丨 北京
設(shè)備共5臺等離子體去膠機(jī)1臺配套國產(chǎn)勻膠機(jī)顯微鏡鋁線綁線機(jī)熱板烘箱等若干 查看詳情>>
旨在配合光刻機(jī)共同完成精細(xì)的光刻工藝流程。系統(tǒng)需確保涂膠的均勻性和顯影的準(zhǔn)確性以保障后續(xù)工藝步驟的質(zhì) 查看詳情>>
造技術(shù)研究院等離子去膠機(jī)采購項(xiàng)目 440605-2024-06718 一、采購人： 廣東中科半導(dǎo)體微納制造技術(shù)研究院 二、采購計(jì)劃編號： 440605-2024-06718 三、采購計(jì)劃名稱： 廣東中科半導(dǎo)體微納制造技 查看詳情>>
驗(yàn)測試平臺采購干法去膠機(jī)1套。該設(shè)備利用等離子體電離O2形成具有很強(qiáng)活性的游離O與光刻膠中的C結(jié)合形成CO2、CO等被真空系統(tǒng)抽走達(dá)到快速且徹底去除光刻膠的目的。 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：多腔室磁控濺射系統(tǒng) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：采用磁控濺射技術(shù)濺射鍍膜在基 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：多腔室磁控濺射系統(tǒng) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：采用磁控濺射技術(shù)濺射鍍膜在基 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：多腔室磁控濺射系統(tǒng) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：采用磁控濺射技術(shù)濺射鍍膜在基 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：等離子去膠機(jī) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：使用等離子體對殘留在晶圓表面的的光刻膠等黏附物質(zhì)進(jìn)行去除。 需滿足的要求：1.傳片系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、低溫與常溫兩種去膠工藝腔、RF射 查看詳情>>
廣東中科半導(dǎo)體微納制造技術(shù)研究院2024年06月至2024年07月政府采購意向-等離子去膠機(jī)采購項(xiàng)目
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-06-18丨 廣東
標(biāo)的名稱：等離子去膠機(jī) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：使用等離子體對殘留在晶圓表面的的光刻膠等黏附物質(zhì)進(jìn)行去除。 需滿足的要求：1.傳片系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、低溫與常溫兩種去膠工藝腔、RF射 查看詳情>>
標(biāo)的名稱：等離子去膠機(jī) 標(biāo)的數(shù)量：1 主要功能或目標(biāo)：使用等離子體對殘留在晶圓表面的的光刻膠等黏附物質(zhì)進(jìn)行去除。 需滿足的要求：1.傳片系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、低溫與常溫兩種去膠工藝腔、RF射 查看詳情>>
成12寸及以下晶圓去膠是光刻等工藝后晶圓表面清潔的必備工藝 查看詳情>>
宿遷技師學(xué)院（本級）2024年4月(第1批)政府采購意向公告 為便于供應(yīng)商及時了解政府采購信息，根 查看詳情>>
宿遷技師學(xué)院（本級）2024年4月(第1批)政府采購意向公告 為便于供應(yīng)商及時了解政府采購信息，根 查看詳情>>
一個腔完成預(yù)浸泡及去膠、剝離在另一個腔完成 查看詳情>>
膠液基片高純金屬靶材研磨液清洗液工藝氣體等實(shí)驗(yàn)室耗材供應(yīng)服務(wù)。 查看詳情>>
本項(xiàng)目施工區(qū)域?yàn)樯钲趪H量子研究院量子器件與芯片加工中心潔凈實(shí)驗(yàn)室施工內(nèi)容為：1、工藝設(shè)備（RIED 查看詳情>>
