控濺射鍍膜儀 查看詳情>>
控濺射鍍膜系統(tǒng) 查看詳情>>
控濺射鍍膜系統(tǒng)一套用于微納電子器件加工制造相關(guān)電子器件主要應(yīng)用于微納生物傳感和腦機(jī)接口等應(yīng)用方向?yàn)榻虒W(xué)和科研中微納電子器件制備提供重要制造平臺支撐。性能要求：真空腔體內(nèi)部安裝磁控靶槍位4個實(shí) 查看詳情>>
1、名稱：超長高度多弧離子鍍膜機(jī) 查看詳情>>
用于大尺寸、高強(qiáng)度碳納米管光學(xué)復(fù)合薄膜的制備研究。 查看詳情>>
中三腔室鍍膜機(jī)用于磁控濺射制備超導(dǎo)探測器的金屬Nb和Al薄膜主腔室8寸靶槍6英寸不均勻度≤3%loadlock腔帶離子刻蝕以及靜態(tài)氧化功能樣品座具備無氧銅冷卻功能 查看詳情>>
控濺射系統(tǒng)1臺套具體參數(shù)要求詳見采購文件。 查看詳情>>
控濺射系統(tǒng) 查看詳情>>
光量子芯片薄膜穩(wěn)定制備設(shè)備 查看詳情>>
全流程微納加工能力磁控濺射是電極制造中金屬互連層、電極接觸層、導(dǎo)電通道、封裝阻擋層等關(guān)鍵薄膜的核心工藝。（兩臺） 查看詳情>>
全流程微納加工能力磁控濺射是電極制造中金屬互連層、電極接觸層、導(dǎo)電通道、封裝阻擋層等關(guān)鍵薄膜的核心工藝。 查看詳情>>
（一）采購標(biāo)的名稱：集成電路電極材料超高真空互聯(lián)物理沉積鍍膜系統(tǒng) 查看詳情>>
2025年4至11月政府采購意向-中子物理與應(yīng)用譜儀國產(chǎn)導(dǎo)管超反射鏡系統(tǒng)詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2025-03-21丨 北京
近散射室的位置通過磁控濺射設(shè)備將鎳鈦多層膜鍍制到超光滑玻璃基片上借助全反射原理起到傳輸中子束流的作用是譜儀必備的核心關(guān)鍵器件之一 查看詳情>>
近散射室的位置通過磁控濺射設(shè)備將鎳鈦多層膜鍍制到超光滑玻璃基片上借助反射原理起到傳輸中子束流的作用是譜儀必備的核心關(guān)鍵器件之一 查看詳情>>
主要包括控制單元、分子泵、機(jī)械泵、真空蒸鍍腔體等單元真空度能夠達(dá)到10-6Pa以下磁控陰極能夠10 查看詳情>>
工件臺尺寸：圓形工件臺直徑6英寸裝載量：可裝載一個6英寸樣品或更小尺寸樣品。多靶極限真空優(yōu)于5E-5 查看詳情>>
詳見項(xiàng)目詳情 查看詳情>>
買一臺超高真空多靶磁控濺射系統(tǒng)。要求襯底溫度可控膜厚可在線監(jiān)控。 查看詳情>>
1)系統(tǒng)整體包含進(jìn)樣室和多靶濺射腔室以及配套的控制系統(tǒng)和真空傳輸系統(tǒng) 查看詳情>>
l-to-reel磁控濺射設(shè)備是REBCO長帶后處理必不可少的關(guān)鍵設(shè)備。主要技術(shù)指標(biāo)為：1.支持帶材長度：>100米；走帶速度：0-100m/h可任意設(shè)定速度 查看詳情>>
l-to-reel磁控濺射設(shè)備是REBCO長帶制備必不可少的關(guān)鍵設(shè)備。主要技術(shù)制備：1.最高設(shè)定溫度：>800℃；2.生長道次：≥4；3.走帶速度：0-100m/ 查看詳情>>
本次采購的設(shè)備將用于制備外延氧化物等薄膜材料也可以用于生長金屬材料。這有利于簡化樣品的制備步驟并且其 查看詳情>>
需要購買一臺高真空磁控濺射系統(tǒng)以便于后續(xù)研制高隧穿磁電阻率磁存儲器件、外延生長高質(zhì)量反鐵磁薄膜。 查看詳情>>
用于含鋰離子化合物薄膜材料的制備合成比如鈷酸鋰、鋰磷氧氮、鋰鑭鋯氧等。需求功能包括：多靶材共濺射偏壓 查看詳情>>
購一臺離軸射頻偏置磁控濺射用于200 查看詳情>>
1.采購項(xiàng)目名稱：電子材料原位制備測量系統(tǒng) 查看詳情>>
控濺射系統(tǒng)1臺套具體要求詳見采購文件。 查看詳情>>
控濺射鍍膜機(jī) 查看詳情>>
釩和氧化物半導(dǎo)體的磁控濺射鍍膜用于制備非制冷紅外傳感器、熱耦合晶體管、鐵電場效應(yīng)晶體管等半導(dǎo)體器件。需要設(shè)備有兩個濺射腔體用于氧化釩鍍膜的腔體可進(jìn)行不小于8寸硅片的濺射鍍膜用于氧化物半 查看詳情>>
1)系統(tǒng)整體包含進(jìn)樣室和多靶濺射腔室以及配套的控制系統(tǒng)和真空傳輸系統(tǒng) 查看詳情>>
采購內(nèi)容：材料高通量制備教學(xué)訓(xùn)練平臺1套包括3個系統(tǒng)：材料快速制備演示系統(tǒng)1套（預(yù)算25萬元）材 查看詳情>>
采購內(nèi)容：材料高通量制備教學(xué)訓(xùn)練平臺1套包括3個系統(tǒng)：材料快速制備演示系統(tǒng)1套（預(yù)算25萬元）材 查看詳情>>
主要功能：主要用于微納電子器件制備的高質(zhì)量氧化物和氮化物薄膜及金屬電極材料的沉積工藝。 查看詳情>>
控濺射是物理氣相沉積的一種能穩(wěn)定、可靠、低成本的制備ITO、TiN材料可支撐器件芯片研制和工藝研發(fā)。 查看詳情>>
l-to-reel磁控濺射設(shè)備用于在百米級別REBCO超導(dǎo)層上沉積銀保護(hù)層設(shè)備具有卷繞功能可實(shí)現(xiàn)雙面同時沉積提高生長效率。 查看詳情>>
l-to-reel磁控濺射設(shè)備用于在金屬基帶上沉積百米級別的Y2O3和Al2O3緩沖層以及在高溫下沉積LMO緩沖層。該設(shè)備具有卷繞功能支持多靶位能夠在850℃下高速沉積。 查看詳情>>
中國科學(xué)院南京天文光學(xué)技術(shù)研究所2024年9至12月政府采購意向-批量子鏡鍍膜設(shè)備詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-09-23丨 北京
控濺射成膜方式純無油真空系統(tǒng)。鏡面朝上放置可制備銀、鋁等介質(zhì)薄膜膜層致密、環(huán)境穩(wěn)定性好。采用多行星轉(zhuǎn)動工件盤單次鍍膜過程即可完成4塊1.5米口徑子鏡的鍍制或容納4.5米口徑主鏡的鍍膜。 查看詳情>>
北京航空航天大學(xué)2024年9至12月政府采購意向-北京航空航天大學(xué)生物與醫(yī)學(xué)工程學(xué)院磁控濺射儀詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-09-18丨 北京
控濺射儀四套靶直流與射頻電源各兩個。 查看詳情>>
北京航空航天大學(xué)2024年9至12月政府采購意向-北京航空航天大學(xué)集成電路科學(xué)與工程學(xué)院芯片加工教學(xué)研究平臺詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-09-09丨 北京
面式光刻機(jī)6臺小型磁控濺射設(shè)備3臺離子束刻蝕機(jī)3臺多種微納器件測試設(shè)備共5臺等離子體去膠機(jī)1臺配套國產(chǎn)勻膠機(jī)顯微鏡鋁線綁線機(jī)熱板烘箱等若干 查看詳情>>
北京大學(xué)2024年10月政府采購意向-磁控濺射臺的除氣反應(yīng)腔室和氧化銦錫反應(yīng)腔室詳細(xì)情況萬元人民幣
招標(biāo)預(yù)告 | 2024-09-06丨 北京
兩個反應(yīng)腔室主要用于建立校級微納工藝平臺晶圓表面金屬化能力提供除氣、ITO等薄膜制備工藝支撐世界一流 查看詳情>>
