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1采購需求一總則11本技術規(guī)格所提出的要求是對本次招標貨物的基本技術要求，并未涉及所有技術細節(jié)，也未充分引述有關標準、規(guī)范的全部條款。投標人應保證其提供的貨物除了滿足本技術規(guī)格的要求外，還應符合中國國家、行業(yè)、地方或設備制造商所在國的有關標準、規(guī)范（尤其是必須符合中國國家標準的有關強制性規(guī)定)。12本技術規(guī)格中提及的工藝、材料、設備的標準及參考品牌或型號（如有）僅起說明作用，并沒有強制性。投標人在投標中可以用替代工藝、材料、設備的標準及品牌或型號，但這種替代須實質(zhì)上滿足、等同或優(yōu)于本技術規(guī)格的要求，否則其投標無效。13中標的主要產(chǎn)品的數(shù)量、單價、規(guī)格等將予以公布。二采購范圍序號標的名稱單位數(shù)量備注1多腔室級聯(lián)薄膜生長A系統(tǒng)套2設備主要組成：包含去氣腔室、預清洗腔室、氧化腔室、Al磁控濺射腔室、Nb磁控濺射腔（數(shù)量2個）、自動化傳送及對位系統(tǒng)2多腔室級聯(lián)薄膜生長B系統(tǒng)套1設備主要組成：包含中央轉接腔、去氣腔（1個）、預清洗腔（1個）、Nb濺射腔（2個）、Au濺射腔（1個）、PdAu濺射腔（1個）、Ti濺射腔（1個）三技術要求31標識符號標識類型標識符號標識符號含義實質(zhì)性參數(shù)★負偏離或未響應視為實質(zhì)性不響應招標文件要求重要參數(shù)●重要技術指標，根據(jù)評分辦法中相關要求進行評審一般參數(shù)無標識一般技術指標，根據(jù)評分辦法中相關要求進行評審注：標識條款中如包含多條子項技術參數(shù)或要求，則需滿足或優(yōu)于該標識條款內(nèi)所有子項技術參數(shù)或要2求方能得分。32技術要求技術性能參數(shù)【A系統(tǒng)】具體技術性能如下：★1、襯底尺寸：支持12英寸晶圓；★2、支持晶圓厚度500-1200μm；3、自動化傳送及對位系統(tǒng)：★31自動傳片機器人，支持自動上下料，傳送精度≤005mm；32至少支持晶圓材質(zhì)：硅、高阻硅、高阻硅-玻璃鍵合片；33需配備晶圓預對位系統(tǒng)，位移偏差精度值≤05mm；34機械動作穩(wěn)定性：馬拉松傳片≥1000片，無刮傷，無破片，無報警；35允許晶圓翹曲≤±05mm@12英寸；36與天車系統(tǒng)集成，Loadport≥2個；4、傳輸腔室：★41傳輸腔接口≥6個；●42前級泵采用干式渦旋泵，抽速為≥600m3/h；●43主泵采用兩臺低溫泵，抽速為≥2200L/s，可通過軟件來控制低溫泵自動再生；★44中央轉接腔室的極限壓強可達≤5×10-7Torr；45冷泵安裝有氣動放氣閥，用于氮氣吹掃；●46配有全量程真空計，測量范圍為大氣至10×10-9Torr，電離規(guī)測量范圍內(nèi)精度≤讀數(shù)的15%；47配有機械臂機構，傳遞樣品到各個工藝腔室；控制程序與其它工藝模塊控制系統(tǒng)集成；5、去氣腔室：51去氣腔室和傳輸腔室之間安裝有氣動隔斷門閥；●52前級泵采用干式渦旋泵，抽速≥600m3/h；●53主泵采用一臺低溫泵，抽速≥200L/s，可通過軟件控制低溫泵自動再生；54冷泵安裝有氣動放氣閥，用于氮氣吹掃；★55去氣溫度范圍：100-350℃；★56本底真空≤5×10-7Torr；357預留殘余氣體分析儀接口；6、預清洗腔室61預清洗腔和中央傳輸腔室之間安裝有氣動隔斷門閥；62前級泵采用干式渦旋泵，抽速≥600m3/h；●63腔室配置氣路≥2路，至少包含5%H2/95%He和Ar兩路，每一路需配置單獨質(zhì)量流量計；★64本底真空≤5×10-7Torr；65主泵采用抽速≥1600L/S的分子泵，分子泵轉速可調(diào)；66配有電容式薄膜規(guī)，滿量程為100mTorr，測量精度≤讀數(shù)的05%；7、氧化腔室●71前級泵采用干式渦旋泵，抽速≥600m3/h；●72主泵采用分子泵，抽速≥1600L/s，分子泵轉速可調(diào)；★73本底真空≤5×10-8Torr；74動態(tài)氧化薄膜規(guī)量程≥200mTorr，測量精度≤05%，通過調(diào)節(jié)擺閥開度控制氣壓；75靜態(tài)氧化薄膜規(guī)量程≥200Torr測量精度≤05%；★76工藝氣體≥2路（氧氣、氬氣），每一路氣路需配置單獨質(zhì)量流量計；●77質(zhì)量流量控制計：氧氣量程≥1000sccm，氬氣≥200sccm，流量控制精度≤1%（滿量程），重復精度≤015%（滿量程）；78前級管路帶有粗真空計，測量范圍從大氣到10×10-4Torr；79水冷系統(tǒng)，截止閥開關各路冷卻水路，設備配有必須的冷卻水安全互鎖設計，以保護設備；710配有全量程真空計，測量范圍為大氣至10×10-9Torr，自動量程切換，電離規(guī)測量范圍內(nèi)精度≤讀數(shù)的15%；●711樣品臺至少可實現(xiàn)吸附高阻硅-玻璃鍵合片；8、Nb磁控濺射腔室（數(shù)量2個）：81配有氣動充氣閥，可連接高純氬氣；配備兩套不銹鋼腔室內(nèi)襯；●82前級泵采用干式渦旋泵，抽速≥600m3/h；●83主泵采用低溫泵，抽速≥900L/s，可通過軟件控制低溫泵自動再生；★84本底真空≤5×10-8Torr；★85襯底最高溫度≤80℃；★86薄膜應力均值≤±200MPa@150nm；487配有全量程真空計，測量范圍為大氣至10×10-9Torr，電離規(guī)測量范圍內(nèi)精度≤讀數(shù)的15%;88配備電容式薄膜規(guī)，滿量程≥100mTorr，測量精度≤讀數(shù)的05%;★89至少包含2路氣體（N2、Ar），每一路氣路需配置單獨質(zhì)量流量計；810質(zhì)量流量控制計：質(zhì)量流量計流量≥200sccm，流量控制精度≤1%（滿量程），重復精度≤015%（滿量程）；●811每個腔室配置一臺直流電源，功率≥5KW，最大輸出電流≥6A；812通過調(diào)節(jié)冷泵門閥來實現(xiàn)氣壓控制；813樣品臺帶有背部氬氣冷卻功能，能夠均勻的冷卻基片；●814樣品臺至少可實現(xiàn)吸附高阻硅-玻璃鍵合片；★815帶有直流電機和控制器，可以在線控制靶材磁鐵的位置和轉動掃描的速度，從而優(yōu)化樣品均勻性；9、Al磁控濺射腔室91配有氣動充氣閥，可連接高純氬氣；配備至少兩套不銹鋼腔室內(nèi)襯；●92前級泵采用干式渦旋泵，抽速≥600m3/h；●93主泵采用低溫泵，抽速≥900L/s，可通過軟件控制低溫泵自動再生;★94本底真空≤5×10-8Torr；95配有全量程真空計，測量范圍為大氣至10×10-9Torr，電離規(guī)測量范圍內(nèi)精度≥讀數(shù)的15%;96配備電容式薄膜規(guī)，滿量程≥100mTorr，測量精度≤讀數(shù)的05%;★97至少包含2路氣體（N2、Ar），每一路氣路需配置單獨質(zhì)量流量計；●98質(zhì)量流量控制計：質(zhì)量流量計流量≥200sccm，流量控制精度≤1%（滿量程），重復精度≤015%（滿量程）；●99每個腔室配置一臺直流電源，功率≥5KW，最大輸出電流≥6A；910樣品臺帶有背部氬氣冷卻功能；●911樣品臺至少可實現(xiàn)吸附高阻硅-玻璃鍵合片；912通過調(diào)節(jié)冷泵門閥來實現(xiàn)氣壓控制；★913帶有直流電機和控制器，可以在線控制靶材磁鐵的位置和轉動掃描的速度，從而優(yōu)化樣品均勻性；10、設備系統(tǒng)穩(wěn)定性(基于試運行數(shù)據(jù))：●101平均正常運行時間（Uptime）≥90%（不包含例行維護保養(yǎng)時間）；