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蘇州大學關于激光鍍膜系統(tǒng)招標公告（招標編號：S2025125）項目所在地區(qū)：江蘇省/蘇州市一、招標條件本激光鍍膜系統(tǒng)已由項目審批/核準/備案機關批準，項目資金來源為其他資金：119200000000萬元，招標人為蘇州大學。本項目已具備招標條件，現(xiàn)招標方式為公開招標。二、項目概況與招標范圍規(guī)模：本項目共分3標段，所有標段可兼投兼中。供應商可選擇參與其中一個或多個標段投標，也可參與全部標段投標。標段1：電子束真空鍍膜機（預算金額為600萬元）標段2：高能脈沖磁控濺射鍍膜機（預算金額為52萬元）標段3：真空紫外熱蒸發(fā)鍍膜機（預算金額為540萬元）。范圍：本招標項目劃分為1個標段，本次招標為其中的：激光鍍膜系統(tǒng)三、投標人資格要求激光鍍膜系統(tǒng)：（一）具有獨立承擔民事責任的能力；（二）具有良好的商業(yè)信譽和健全的財務會計制度；（三）具有履行合同所必需的設備和專業(yè)技術能力；（四）有依法繳納稅收和社會保障資金的良好記錄；（五）近三年內(nèi)，在經(jīng)營活動中沒有重大違法記錄；（六）本項目不接受聯(lián)合體投標。本項目不允許聯(lián)合體投標。四、招標文件的獲取獲取時間：2025年11月14日12時00分到2025年11月20日12時00分獲取方式：網(wǎng)上自行下載：https://zbzxsudaeducn/61/b7/c9291a680375/pagehtm五、投標文件的遞交遞交截止時間：2025年11月25日14時00分遞交方式：順豐快遞（建議優(yōu)先采用）六、開標時間及地點開標時間：2025年11月25日14時00分開標地點：江蘇省蘇州市東環(huán)路50號凌云樓0903室七、其他一、項目名稱：激光鍍膜系統(tǒng)二、招標編號：S2025125三、招標人：蘇州大學采購與招投標管理中心地址：江蘇省蘇州市東環(huán)路50號凌云樓0904室郵編：215021傳真：0512-67165076聯(lián)系人：羅老師電話：0512-67504198，67504359電子郵箱：lrb998@sudaeducn技術聯(lián)系人：王老師電話：*電子郵箱：kxwang@sudaeducn四、招標貨物品名、數(shù)量、主要性能參數(shù)基本要求本項目共分3標段，所有標段可兼投兼中。供應商可選擇參與其中一個或多個標段投標，也可參與全部標段投標。標段1：電子束真空鍍膜機（預算金額為600萬元）標段2：高能脈沖磁控濺射鍍膜機（預算金額為52萬元）標段3：真空紫外熱蒸發(fā)鍍膜機（預算金額為540萬元）第一標段電子束真空鍍膜機1臺1真空室箱式前開門結構，內(nèi)腔直徑大于等于1800mm，不銹鋼材料。2配行星工件架和平盤，轉(zhuǎn)速可調(diào)，最高可達30轉(zhuǎn)/分鐘,3個行星盤，單個最大載重量80Kg,工件豎直方向的位移量不超過1mm。3極限真空優(yōu)于5×10-5Pa，從大氣抽至工作真空2×10-3Pa時間小于20分鐘。漏氣率低于9×10-5Pam3/秒4烘烤溫度可調(diào)，最高大于450℃，溫度均勻性350℃±10℃（90分鐘）。5配光學膜厚監(jiān)控儀，波長范圍：350nm-1100nm，光控精度優(yōu)于05%,60點監(jiān)控篇旋轉(zhuǎn)機構，監(jiān)控片最高加熱溫度300℃6電子槍2套，270°偏轉(zhuǎn)，自動滅弧系統(tǒng)，加速電壓4kV~10kV連續(xù)可調(diào)，放射電流0~1A連續(xù)可調(diào)，最大輸出功率10kW。配環(huán)形坩堝和點式坩堝。7配干泵，低溫泵，低溫冷凝器。8配射頻離子源，網(wǎng)柵尺寸大于23cm，射頻功率不低于1800W，加速電壓100V~1000V可調(diào)，最大束電流不小于1500mA。9配充氣控制系統(tǒng)：壓力范圍66×10-2?30×10-3Pa。10配水晶體膜厚監(jiān)控3套，分別位于頂部中心和各坩堝上方。11配冷卻水系統(tǒng)。12配電氣控制系統(tǒng)。13配鍍膜控制系統(tǒng)。14膜厚均勻性，1000mm×350mm光學元件鍍膜均勻性PV值±05%（考察SiO2/HfO2@500nm）。15質(zhì)保期不少于1年。第二標段高能脈沖磁控濺射鍍膜機1臺1真空腔室尺寸≥Ф600*500mm。2靶材樣品面積：φ75mm。3可濺射材料：金屬、氧化物、氮化物、半導體。4極限真空度≤66×10-6Pa。抽速：短時間暴露大氣環(huán)境，25min內(nèi)真空度≤7×10-4Pa，保壓：停泵10h后≤09Pa。5濺射靶頭數(shù)量5個，靶頭可適配射頻、直流、高能脈沖、偏壓四種電源。6最高加熱溫度≥650℃，長期工作溫度≥600℃，溫控精度±3℃。7濺射電源種類：2個直流電源:輸出功率≥1000W，連續(xù)工作時間≥3h；1個脈沖偏壓電源：≥-1000V/1A；2個射頻電源：輸出功率≥600W，連續(xù)工作時間≥5h，頻率全自動匹配；1個高能脈沖電源；高能脈沖電源：1臺，DC輸入功率5000W，脈沖輸出功率+/-500KW(peak)，工作頻率DC-50kHz，開啟和關斷時間≥5μs(TON+TOFF≥20μs)，抑弧時間≤2μs，抑弧重啟時間30μs?32000μs。8共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調(diào)），分布在一個圓周上，各靶可獨立/順次/共同工作。9靶在下，待沉積樣品在下，從下往上沉積。10基板數(shù)不少于5組，基板尺寸不小于100mm×100mm，公自轉(zhuǎn)動軸位5組；每個工位均可進行獨立加熱，基片通過加熱絲加熱方式，加熱爐加熱溫度：室溫～650°C，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示。11供氣管路數(shù)量3路，單路最大流量≥100sccm，包括氧氣、氬氣、氮氣。12提供氣路卡套、壓墊、管接頭等3套。13設備在抽真空、濺射等全過程有計算機全自動可編程序控制系統(tǒng)。14設備配備工業(yè)屏，可對全工藝、全動作、全功能的執(zhí)行過程中的數(shù)據(jù)，流程，報警等信息進行顯示，并可對設備相關部件進行操作。15安全控制系統(tǒng)對超溫、超壓、停水、停電和設備運行狀態(tài)下的突發(fā)故障或異常情況做出聲光報警、自鎖或互鎖，保護等動作。16雙通道膜厚儀監(jiān)測系統(tǒng)。17設備驗證驗收要求鍍膜指標：實現(xiàn)鍍制二氧化鉿薄膜，厚度600nm，片內(nèi)均勻性≤±2%，片間均勻性≤±2%；實現(xiàn)鍍制鋁薄膜，厚度100nm，片內(nèi)均勻性≤±1%，片間均勻性≤±1%。測試方法為：使用臺階儀或SEM測試。18質(zhì)保期不少于3年。第三標段真空紫外熱蒸發(fā)鍍膜機1臺（一）真空室